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            實驗室高低溫循環(huán)裝置應用原理

            簡要描述:實驗室高低溫循環(huán)裝置應用原理,應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。解決化學醫(yī)藥工業(yè)用準確控溫的特殊裝置,用以滿足間歇反應器溫度控制或持續(xù)不斷的工藝進程的加熱及冷卻、恒溫系統(tǒng)。

            • 產品型號:SUNDI-535
            • 廠商性質:生產廠家
            • 更新時間:2025-01-13
            • 訪  問  量:1403
            詳情介紹
            品牌LNEYA/無錫冠亞價格區(qū)間5萬-10萬
            產地類別國產應用領域醫(yī)療衛(wèi)生,化工,生物產業(yè),石油,航空航天

            <strong><strong><strong><strong>企業(yè)選擇TCU反應釜溫控系統(tǒng)需要注意哪些</strong></strong></strong></strong> 

            無錫冠亞冷熱一體機典型應用于:

            高壓反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、

            雙層反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制;

            小型恒溫控制系統(tǒng)、蒸飽系統(tǒng)控溫、材料低溫高溫老化測試、

            組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制。  

            <strong><strong>中試配套高低溫一體機的使用基本要求說明</strong></strong>

            型號SUNDI-655WVSUNDI-675WVSUNDI-6A10WVSUNDI-6A15WVSUNDI-6A25WV
            介質溫度范圍-60℃~+300℃ (系統(tǒng)加壓3BAR)
            控制系統(tǒng)前饋PID ,無模型自建樹算法,PLC控制器
            溫控模式選擇物料溫度控制與設備出口溫度控制模式 可自由選擇
            溫差控制設備出口溫度與反應物料溫度的溫差可控制、可設定
            程序編輯可編制5條程序,每條程序可編制40段步驟
            通信協(xié)議MODBUS RTU 協(xié)議  RS 485接口
            外接入溫度反饋PT100或4~20mA或通信給定(默認PT100)
            溫度反饋設備導熱介質 溫度、出口溫度、反應器物料溫度(外接溫度傳感器)三點溫度
            導熱介質溫控精度±0.5℃
            反應物料溫控精度±1℃
            加熱功率 kW5.57.5101525
            制冷量 kW  AT300℃5.57.5101525
            100℃5.57.5101525
            20℃5.57.5101525
            -20℃4.868.21225
            -40℃2.33.14.87.818
            -55℃0.750.91.52.86
            流量壓力 max  L/min bar355060110150
            222.52.52.5
            循環(huán)泵冠亞磁力驅動泵
            壓縮機法國泰康活塞壓縮機意大利都凌/卡萊爾/艾默生
            膨脹閥丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥+艾默生電子膨脹閥
            蒸發(fā)器丹佛斯/高力板式換熱器
            操作面板7英寸彩色觸摸屏,溫度曲線顯示、記錄
            安全防護具有自我診斷功能;冷凍機過載保護;高壓壓力開關,過載繼電器、熱保護裝置等多種安全保障功能。
            密閉循環(huán)系統(tǒng)整個系統(tǒng)為全密閉系統(tǒng),高溫時不會有油霧、低溫不吸收空氣中水份,系統(tǒng)在運行中不會因為高溫使壓力上升,低溫自動補充導熱介質。
            制冷劑R-404A/R23混合制冷劑
            接口尺寸G3/4G1G1G1DN32 PN10
            水冷型 W
            溫度 20度
            1800L/H
            1.5bar~4bar
            G3/4
            2100L/H
            1.5bar~4bar
            G3/4
            3000L/H
            1.5bar~4bar
            G1
            4000L/H
            1.5bar~4bar
            G1 1/8
            8.5m³/H
            1.5bar~4bar
            DN40
            外形尺寸 cm55*100*17555*100*17570*100*17580*120*185100*150*185
            重量kg265305340380980
            電源 380V50HZ10kW14kW18kW26kW40kW

             <strong><strong>中試配套高低溫一體機的使用基本要求說明</strong></strong><strong><strong>中試配套高低溫一體機的使用基本要求說明</strong></strong><strong><strong>中試配套高低溫一體機的使用基本要求說明</strong></strong><strong><strong>中試配套高低溫一體機的使用基本要求說明</strong></strong>

            實驗室高低溫循環(huán)裝置應用原理

            實驗室高低溫循環(huán)裝置應用原理

              實驗室高低溫循環(huán)裝置相比傳統(tǒng)手動釜式加熱制冷方式有一定的降耗、減少排放的優(yōu)勢。近年來,隨著中國的制藥行業(yè)在不斷的發(fā)展進步,此類設備的應用會越來越廣泛。

              實驗室高低溫循環(huán)裝置具有升溫/降溫或者加熱/冷卻的功用,運用反應釜進行物料之間的混合或是化學反應,伴隨著放熱或吸熱的過程,這部分熱量需要經過一種設備使之維持均衡,保持在一定的溫度規(guī)模內,出產正常進行,反應釜化工行業(yè)高低溫循環(huán)裝置起著不行忽視的作用。

              實驗室高低溫循環(huán)裝置采用夾套式反應釜溫度串級控制原理,將釜內溫度作為主調節(jié)器,夾套溫度作為副調節(jié)器,把一次擾動即加入物料和物料化學反應的放熱對釜內溫度的擾動放在主被控過程上,把二次擾動即蒸汽和冷凍水對夾套溫度的擾動放在副被控過程上。這樣一來可以及早克服進入副回路的擾動,而且又能改善過程特性。

              實驗室高低溫循環(huán)裝置已經廣泛使用在反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制、制冷加熱恒溫控制中,行業(yè)涉及制藥、化工、科研機構等行業(yè)領域中。

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